粉末型(P-ALD)
Company Profile
科民電子研發的粉末鍍膜設備為三腔結構,真空腔體內部放置一個粉末鍍膜反應腔,粉末鍍膜反應腔內部包含有最多4個獨立的樣品倉,可一次沉積4種不同的粉末品。采用精密的反應氣場控制,可以同時在四種不同納米粉末上均勻生長薄膜材料;ALD反應所需的前驅體源通過兩個獨立的進氣通道進入粉末鍍膜反應腔,在經過樣品倉后通出。避免了CVD反應,氣流帶動粉末在樣品倉內進行輕微運動,使ALD反應能在粉末表面順利進行。
网上真人麻将平台 重庆幸运农场杀一码 山东群英会软件预测 今日股票走势 免费平特三组涟肖原创一肖图 广东11选5开奖结果走势图 北京快3开奖l结果图片 配资炒股绩差股 内蒙古11选五任三最大遗漏 极速赛车在线人工计划 南粤26选5最新开奖结果