粉末型(P-ALD)
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科民電子研發的粉末鍍膜設備為三腔結構,真空腔體內部放置一個粉末鍍膜反應腔,粉末鍍膜反應腔內部包含有最多4個獨立的樣品倉,可一次沉積4種不同的粉末品。采用精密的反應氣場控制,可以同時在四種不同納米粉末上均勻生長薄膜材料;ALD反應所需的前驅體源通過兩個獨立的進氣通道進入粉末鍍膜反應腔,在經過樣品倉后通出。避免了CVD反應,氣流帶動粉末在樣品倉內進行輕微運動,使ALD反應能在粉末表面順利進行。

   

科民電子粉末鍍膜原子層沉積設備的成功研發,為催化、環境、電池材料等領域的用戶提供了可靠的粉體鍍膜方案,為相關領域用戶取得更多的科研成果及技術突破提供了新的解決方案。

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